شرکت TSMC، تولیدکننده نیمه‌هادی، در حال معرفی پلتفرم cuLitho شرکت Nvidia برای تسریع فرآیند تولید لیتوگرافی محاسباتی است که در ساخت تراشه‌های پیشرفته استفاده می‌شود. لیتوگرافی محاسباتی یکی از مراحل کلیدی در تولید تراشه‌ها و پرهزینه‌ترین فرآیند محاسباتی در صنعت نیمه‌هادی است. این فرآیند نیاز به محاسبات پیچیده در زمینه فیزیک الکترومغناطیسی، شیمی‌نوری و هندسه محاسباتی دارد. به طور سنتی، کارخانه‌ها، مراکز داده بزرگ را برای انجام این محاسبات به کار می‌گیرند، اما سیستم‌های سنتی نیازمند ده‌ها میلیارد ساعت محاسبه در سال هستند و به محدودیت‌های فیزیکی نزدیک شده‌اند. پلتفرم محاسباتی تسریع‌شده cuLitho، که توسط 350 سیستم GPU Tensor Core H100 شرکت Nvidia تغذیه می‌شود، می‌تواند جایگزین 40,000 سیستم CPU شود و زمان تولید، مصرف انرژی و فضای مرکز داده را کاهش دهد.

C.C. Wei، مدیرعامل TSMC، اظهار داشت که همکاری آن‌ها با Nvidia برای ادغام محاسبات تسریع‌شده با GPU در روند کاری TSMC منجر به افزایش چشمگیر عملکرد، بهبود نرخ پردازش، کاهش زمان چرخه و کاهش مصرف انرژی شده است. علاوه بر این، Nvidia قابلیت‌های هوش مصنوعی مولد را به cuLitho اضافه کرده است که می‌تواند با بهبود فرآیند تصحیح مجاورت نوری (OPC)، دو برابر سرعت پردازش را افزایش دهد. OPC یک فرآیند حیاتی در لیتوگرافی نیمه‌هادی است که برای بهبود دقت انتقال الگوهای مداری از ماسک‌های نوری به ویفر سیلیکونی استفاده می‌شود. شتاب‌دهی به لیتوگرافی محاسباتی باعث می‌شود ماسک‌ها سریع‌تر تولید شوند و زمان توسعه قابلیت‌های جدید تراشه‌ها کاهش یابد. همچنین این امر محاسباتی را که قبلاً به دلیل زمان‌بر بودن امکان‌پذیر نبودند، امکان‌پذیر می‌سازد. 

معرفی محاسبات تسریع‌شده و هوش مصنوعی ممکن است امکان استفاده عملی از تکنیک‌هایی مانند لیتوگرافی معکوس را فراهم کند. این تکنیک‌ها به عنوان روشی برای طراحی مدارها از طریق شروع با الگوی نهایی مورد نظر روی ویفر و سپس محاسبه الگوی بهینه ماسک نوری توسعه یافته‌اند. اگرچه این تکنیک‌ها برای دو دهه در حال بررسی بوده‌اند، اما به دلیل نیاز شدید به محاسبات وارد مرحله تولید نشده‌اند، اما cuLitho می‌تواند به ورود آن‌ها به تولید نیمه‌هادی‌های نسل بعدی کمک کند.

منبع خبر: AI Business